东京半导体设备展有很多年历史，今年因为新芯宣布旗下的光刻机业务条线突破了40nm工艺制程，导致这次的东京半导体设备展格外引人注目。
新芯这个名字在半导体行业内并不陌生，甚至颇有种大名鼎鼎的味道在内，因为这家企业和它的创始人周新一样，迅速崛起后在业内占据了重要的地位。
台积电被它压制的极其难受，ARM的移动芯片架构成为主流新芯功不可没，德州仪器、三星、英特尔这些老牌巨头纷纷下注移动芯片同样是因为新芯。
因为新芯的地位和行业口碑，让大家相信新芯确实突破了40nm工艺制程，尤其是友商们，他们更关注另外一件事。
“新芯是如何做到的？”在东京半导体展的开幕式上，小松正志低声问他旁边的佐藤博人。
小松正志是霓虹EUVA的执行董事，同时也是小松株式会社的会长，小松株式会社是光源制造商。
在霓虹产经社的主导下，尼康、佳能、小松株式会社、东芝和三菱等等都是EUVA的成员，EUVA的全称是极紫外光光刻开发协会，极紫外光就是13.5nm波长的光。
因此新芯宣布攻克40nm制程后，EUVA的成员们并没有太大的危机感，因为他们一旦攻克了极紫外光，那么从65nm制程一直到5nm都将畅通无阻。
甚至站在EUVA，也就是协会的立场和小松株式会社的立场来说，小松正志有点巴不得新芯是真的突破了，也就是说那种可以用在大规模生产上有良品率保障的突破，而别是实验室突破。
因为新芯攻克了40nm工艺制程，意味着EUVA会获得更多的资源支持，小松株式会社作为其中唯一的光源制造商，自然也会获得更多的资源扶持。
至于新芯在光刻机市场上彻底击败霓虹，小松正志从来没有想过这种可能性，在他看来这是不可能的事情。
不过后世ASML能够借助技术优势几乎在短短三年时间内彻底实现逆转，打的尼康和佳能永世不得翻身，这完全不是市场化行为，而是ASML背后的阿美利肯资本主导下的行为。
为什么这么说，因为在ASML靠着浸润法率先攻克40nm的工艺制程并获得英特尔的生产验证后，他们召开了光刻未来技术研讨会，会上邀请了10家主要的芯片制造厂商，也就是他们的主要客户。
会上，ASML表示他们已经借助浸润法成功攻克了那道门槛，也就是卡住芯片工艺继续发展的门槛，希望大家支持浸润法光刻机作为未来唯一的技术路线，说白了就是只支持ASML。
在场10家芯片制造厂商里有6家技术代表你们的浸润法光刻机没问题，但是我们也希望让157nm干式光刻机继续发展作为备份的技术路线，因为这样一旦浸润式光刻机技术路线遇到阻碍，我们还有第二个选项。
这是非常合理的要求，站在当时那个视角来看，没人能保证浸润式绝对没有问题，工艺制程的发展能够一马平川，毫无阻碍。
结果就是ASML在该会议上痛批这帮芯片制造厂商的技术代表们没有远见，观点的参考价值极其有限。
ASML组织了这次技术研讨会，研讨会后却完全没有用会议的讨论结果，在背后资本主导下，尼康和佳能的157nm干式光刻机失去了整个西方资本主导下芯片代工的市场。
小松正志和他的小松株式会社也在这过程中消失在行业内，再也没有了任何消息。
“大概率是用的浸润法，也就是在镜头和硅片之间加液体，他们光刻机条线的负责人是林本坚博士，他一直坚持浸润法是半导体工艺突破的关键。
只是不知道他们是如何绕过浸润法的困难。”佐藤博人说，他是EUVA在御殿场市的研发团队的负责人。
在光刻机失利后，佐藤博人同样经历了很长一段时间的失落和沉寂，和小松正志比起来，他最后还是走出来了，甚至换了个研究方向重新活跃在学术界。
此时意气风发指点新芯光刻机技术的他们，不会知道这个未来对霓虹的光刻机产业只会更加残酷。
尼康和佳能这次连残羹冷炙都吃不到了。
“我也好奇，因为新芯最早是买的我们的光刻机技术，他们如果要采用浸润法的话，需要完全重新构建整个物镜光路。
这可不是一个小工作。
这需要耗费大量的人力物力。”小松正志说。
作为光源制造商，他很清楚，尼康的技术关键，要想采用浸润式有太多困难了。
最大的困难就是物镜光路的改造，尼康的技术最后一块物镜是曲面的，曲面镜片和浸润式存在天然的不兼容。
而ASML的193nm光刻机最后一片镜片是平的，ASML的物镜系统可以无缝对接浸没式系统。
佐藤博人说：“我每次在IEEE的光学大会上和林博士聊，他对光刻机领域如何利用光源非常精通。
想必在他主导下，加上新芯的人才储备和资源投入，重构整个物镜光路是完全可行的技术路线。”
“不，不是因为林，新芯能改造我们的物镜光路，是因为有蔡司的全力支持。”杰夫·怀特说，他是尼康新上任的CEO，不知道什么时候坐到了佐藤和小松正志的旁边。
小松正志和佐藤博人都连忙和杰夫·怀特打招呼。
简单的寒暄后，杰夫·怀特说：“虽然不想承认，但是新芯在光刻机领域的研发速度远超我们的预计。
其中新芯自身从尼康、佳能挖走大量研发人员是原因之一，他们获得了蔡司的全力配合是更重要的原因。
对于一套新的光学通路来说，没有蔡司的配合，新芯无论如何也没有办法在短短两年时间做到重构整个物镜光路。”
杰夫·怀特很无奈，当年尼康做出把技术卖给新芯的时候他还不是尼康的CEO，后来复盘的时候他想过，如果当时他是新芯的CEO是一定不会把技术卖给新芯的。
远在东京的尼康不会知道Newman有多神奇，只有身在硅谷的杰夫·怀特对这一点最有感触，自从Newman迅速崛起后，他成为了杰夫·怀特日常生活中听到最多的名人。
三人的闲聊在林本坚上台后戛然而止，大家都想听听新芯的技术路线。
“.我们在晶圆光刻胶上方加了一层，利用这层介质把光源的波长缩短到了150nm以内。因此在不改变光刻机波长情况下，变相扩大了NA，使得193nm波长的能等效出150nm以内的波长！”
“同时因为业内大量的芯片制造厂商们，他们会在一个大的硅片上生产大量不同的芯片，浸润式光刻法可以避免高掩模成本.”
林本坚在台上通过一些图片和实验结果来展示浸润式光刻机的优越性，讲的非常枯燥乏味，大量的技术内容掺杂着寥寥数笔浸润式光刻机的技术优势。
即便如此，台下来自半导体不同环节的企业代表们没有一个走神，大家都在全神贯注的听着新芯的技术路线。
“我就说浸润式可行，我们不应该在干式光刻机上再投入资金了。
浸润式光刻机才是未来。
我们继续沿着尼康和佳能的技术优势路线投入，那么我们永远都不会有超过佳能和尼康的机会。
而新芯有这样的自信，所以他们短短数年时间，就顺利实现了超越。”
“现在的问题是新芯已经率先在浸润式光刻机上实现了突破，一是他们实现了突破，一步慢，步步慢。
我们拿出类似的浸没式光刻机最快也要一年时间。
一旦新芯把关键技术注册了专利，一年时间都不够，三到五年都是完全有可能的。
推出新设备之后，需要用1到3年的时间由厂商通力配合适应，新芯比你早量产就比你多了时间去改善问题和提高良率，这会让我们更加难以超越，一步落后，步步落后。
现在再去走浸润式，我怎么感觉死的更快呢？”
ASML的技术专家们很懊悔，曾经他们有机会走浸润式光刻机路线，但是这个机会被他们内部的决策给亲自否了，业内没有一家走这个技术路线，凭什么他们能走通？
新芯和蔡司配合研发浸润式光刻机的消息传到ASML的耳中时，他们早就确定技术研发方向了。
“没有办法，我们只能把这几年的市场拱手相让，让给新芯，等到EUV的时候再翻盘。
这是唯一的办法了。”
“唉，我们真的还有钱烧这么多年吗？
换句话说，如果在EUV光刻机上，新芯又比我们先完成研发怎么办？”
“不可能，绝对不可能，我们连原型机都已经研发出来了，新芯没有参与EUV LLC的前期论证，华国国家层面压根没有投入到这一块的研发中去过。
Newman再厉害他也不可能改变物理世界的规则，如果是互联网世界，我相信Newman也许能做到。”
EUV也就是极紫外光光刻机，极紫外光的波长只有13.5nm，此时ASML的实验室已经有世界上第一台EUV的原型机了。
在看到新芯已经突破40nm，ASML的技术专家们把希望放在了EUV上，他们认为EUV将让这场竞争彻底失去悬念。
准确来说不是他们这么认为，是业内所有厂商都这么认为，谁先攻克EUV技术，谁将获得光刻机领域的最终胜利，霓虹的巨头们在霓虹产经省的主导下成立了EUVA的研发。
阿美利肯则在能源部的牵头下成立了EUV LLC，由阿美利肯三大顶尖国家实验室：劳伦斯利弗莫尔实验室、劳伦斯伯克利实验室和桑迪亚国家实验室去做技术论证。
技术论证完业界来实现。
因此阿美利肯和霓虹都在拼命往EUV里投入，失利只是暂时的，谁先攻克EUV，这场战争才算结束。
新芯的领先只是阶段性领先。
但是还是很肉痛，先进制程的市场失去后，这些企业要靠政府输血养活，这可是一大笔钱。
“我们欢迎大家使用新芯的浸润式光刻机，有采购需求的公司可以找新芯联系。”
林本坚的演讲结束后，台下响起了雷鸣般的掌声，即便是直接竞争对手ASML、尼康、佳能的技术代表们，都没有吝啬自己的掌声。
在这个经济全球化的年代，芯片应该是经济全球化最深的行业，任何一点技术进步，都将使整个行业受益。
新芯顺利靠着浸润法找到了150nm波长以下的光，那么尼康是不是可以先研发出157nm的干式光刻机，然后再用157nm波长的光去做浸润法，把波长进一步缩短？
所以新芯的技术进步，对直接竞争对手也是有帮助的，更别提芯片其他领域的厂商了。
“照片和视频拍的怎么样？拍好之后我们得赶快去后台找林博士采访然后回酒店把片子剪出来传回去。
这条新闻可是要在今天晚上七点档的新闻节目里播出呢。”
“拍好了。
我的技术你放心，绝对完美，把所有关键要素都拍到了。
我还是第一次从霓虹人脸上看出这么多表情。
林博士在说到他们已经完成了技术验证的时候，霓虹人的脸都绿了。
最后又不得不鼓掌的时候，看得我想笑。”
“拍到了就好，少说两句，小霓虹会中文的不少。”
“话说还是这种场合有意思，老是去国外参展，华国企业又不发言，就坐在下面听人家说，然后来接受我们采访就干站着说两句，什么我们要实现技术突破，我们要创新这类的套话。
那种出外勤是真没意思，这种让我自费跑一趟我都愿意。
刚刚我回后台拿设备准备来找林博士采访的时候，霓虹的媒体还用汉语问我能不能帮他做介绍，找林博士采访。
之前去出外勤哪能遇到这种事。”
“好了，别贫了，把镜头调好，我们就准备去找林博士了。
今天找他的人肯定很多，我们不能耽误人家时间。”
这是央妈的国际新闻团队，新芯实现光刻机领域的技术突破是华国当下难得的技术突破，完全值得大书特书。
这含金量可比汉芯高多了，汉芯只是芯片设计。
因此央妈派了一整个团队，想拍成一个纪录片，今天晚上的新闻节目只是放一小段实时新闻。
(本章完)
新芯这个名字在半导体行业内并不陌生，甚至颇有种大名鼎鼎的味道在内，因为这家企业和它的创始人周新一样，迅速崛起后在业内占据了重要的地位。
台积电被它压制的极其难受，ARM的移动芯片架构成为主流新芯功不可没，德州仪器、三星、英特尔这些老牌巨头纷纷下注移动芯片同样是因为新芯。
因为新芯的地位和行业口碑，让大家相信新芯确实突破了40nm工艺制程，尤其是友商们，他们更关注另外一件事。
“新芯是如何做到的？”在东京半导体展的开幕式上，小松正志低声问他旁边的佐藤博人。
小松正志是霓虹EUVA的执行董事，同时也是小松株式会社的会长，小松株式会社是光源制造商。
在霓虹产经社的主导下，尼康、佳能、小松株式会社、东芝和三菱等等都是EUVA的成员，EUVA的全称是极紫外光光刻开发协会，极紫外光就是13.5nm波长的光。
因此新芯宣布攻克40nm制程后，EUVA的成员们并没有太大的危机感，因为他们一旦攻克了极紫外光，那么从65nm制程一直到5nm都将畅通无阻。
甚至站在EUVA，也就是协会的立场和小松株式会社的立场来说，小松正志有点巴不得新芯是真的突破了，也就是说那种可以用在大规模生产上有良品率保障的突破，而别是实验室突破。
因为新芯攻克了40nm工艺制程，意味着EUVA会获得更多的资源支持，小松株式会社作为其中唯一的光源制造商，自然也会获得更多的资源扶持。
至于新芯在光刻机市场上彻底击败霓虹，小松正志从来没有想过这种可能性，在他看来这是不可能的事情。
不过后世ASML能够借助技术优势几乎在短短三年时间内彻底实现逆转，打的尼康和佳能永世不得翻身，这完全不是市场化行为，而是ASML背后的阿美利肯资本主导下的行为。
为什么这么说，因为在ASML靠着浸润法率先攻克40nm的工艺制程并获得英特尔的生产验证后，他们召开了光刻未来技术研讨会，会上邀请了10家主要的芯片制造厂商，也就是他们的主要客户。
会上，ASML表示他们已经借助浸润法成功攻克了那道门槛，也就是卡住芯片工艺继续发展的门槛，希望大家支持浸润法光刻机作为未来唯一的技术路线，说白了就是只支持ASML。
在场10家芯片制造厂商里有6家技术代表你们的浸润法光刻机没问题，但是我们也希望让157nm干式光刻机继续发展作为备份的技术路线，因为这样一旦浸润式光刻机技术路线遇到阻碍，我们还有第二个选项。
这是非常合理的要求，站在当时那个视角来看，没人能保证浸润式绝对没有问题，工艺制程的发展能够一马平川，毫无阻碍。
结果就是ASML在该会议上痛批这帮芯片制造厂商的技术代表们没有远见，观点的参考价值极其有限。
ASML组织了这次技术研讨会，研讨会后却完全没有用会议的讨论结果，在背后资本主导下，尼康和佳能的157nm干式光刻机失去了整个西方资本主导下芯片代工的市场。
小松正志和他的小松株式会社也在这过程中消失在行业内，再也没有了任何消息。
“大概率是用的浸润法，也就是在镜头和硅片之间加液体，他们光刻机条线的负责人是林本坚博士，他一直坚持浸润法是半导体工艺突破的关键。
只是不知道他们是如何绕过浸润法的困难。”佐藤博人说，他是EUVA在御殿场市的研发团队的负责人。
在光刻机失利后，佐藤博人同样经历了很长一段时间的失落和沉寂，和小松正志比起来，他最后还是走出来了，甚至换了个研究方向重新活跃在学术界。
此时意气风发指点新芯光刻机技术的他们，不会知道这个未来对霓虹的光刻机产业只会更加残酷。
尼康和佳能这次连残羹冷炙都吃不到了。
“我也好奇，因为新芯最早是买的我们的光刻机技术，他们如果要采用浸润法的话，需要完全重新构建整个物镜光路。
这可不是一个小工作。
这需要耗费大量的人力物力。”小松正志说。
作为光源制造商，他很清楚，尼康的技术关键，要想采用浸润式有太多困难了。
最大的困难就是物镜光路的改造，尼康的技术最后一块物镜是曲面的，曲面镜片和浸润式存在天然的不兼容。
而ASML的193nm光刻机最后一片镜片是平的，ASML的物镜系统可以无缝对接浸没式系统。
佐藤博人说：“我每次在IEEE的光学大会上和林博士聊，他对光刻机领域如何利用光源非常精通。
想必在他主导下，加上新芯的人才储备和资源投入，重构整个物镜光路是完全可行的技术路线。”
“不，不是因为林，新芯能改造我们的物镜光路，是因为有蔡司的全力支持。”杰夫·怀特说，他是尼康新上任的CEO，不知道什么时候坐到了佐藤和小松正志的旁边。
小松正志和佐藤博人都连忙和杰夫·怀特打招呼。
简单的寒暄后，杰夫·怀特说：“虽然不想承认，但是新芯在光刻机领域的研发速度远超我们的预计。
其中新芯自身从尼康、佳能挖走大量研发人员是原因之一，他们获得了蔡司的全力配合是更重要的原因。
对于一套新的光学通路来说，没有蔡司的配合，新芯无论如何也没有办法在短短两年时间做到重构整个物镜光路。”
杰夫·怀特很无奈，当年尼康做出把技术卖给新芯的时候他还不是尼康的CEO，后来复盘的时候他想过，如果当时他是新芯的CEO是一定不会把技术卖给新芯的。
远在东京的尼康不会知道Newman有多神奇，只有身在硅谷的杰夫·怀特对这一点最有感触，自从Newman迅速崛起后，他成为了杰夫·怀特日常生活中听到最多的名人。
三人的闲聊在林本坚上台后戛然而止，大家都想听听新芯的技术路线。
“.我们在晶圆光刻胶上方加了一层，利用这层介质把光源的波长缩短到了150nm以内。因此在不改变光刻机波长情况下，变相扩大了NA，使得193nm波长的能等效出150nm以内的波长！”
“同时因为业内大量的芯片制造厂商们，他们会在一个大的硅片上生产大量不同的芯片，浸润式光刻法可以避免高掩模成本.”
林本坚在台上通过一些图片和实验结果来展示浸润式光刻机的优越性，讲的非常枯燥乏味，大量的技术内容掺杂着寥寥数笔浸润式光刻机的技术优势。
即便如此，台下来自半导体不同环节的企业代表们没有一个走神，大家都在全神贯注的听着新芯的技术路线。
“我就说浸润式可行，我们不应该在干式光刻机上再投入资金了。
浸润式光刻机才是未来。
我们继续沿着尼康和佳能的技术优势路线投入，那么我们永远都不会有超过佳能和尼康的机会。
而新芯有这样的自信，所以他们短短数年时间，就顺利实现了超越。”
“现在的问题是新芯已经率先在浸润式光刻机上实现了突破，一是他们实现了突破，一步慢，步步慢。
我们拿出类似的浸没式光刻机最快也要一年时间。
一旦新芯把关键技术注册了专利，一年时间都不够，三到五年都是完全有可能的。
推出新设备之后，需要用1到3年的时间由厂商通力配合适应，新芯比你早量产就比你多了时间去改善问题和提高良率，这会让我们更加难以超越，一步落后，步步落后。
现在再去走浸润式，我怎么感觉死的更快呢？”
ASML的技术专家们很懊悔，曾经他们有机会走浸润式光刻机路线，但是这个机会被他们内部的决策给亲自否了，业内没有一家走这个技术路线，凭什么他们能走通？
新芯和蔡司配合研发浸润式光刻机的消息传到ASML的耳中时，他们早就确定技术研发方向了。
“没有办法，我们只能把这几年的市场拱手相让，让给新芯，等到EUV的时候再翻盘。
这是唯一的办法了。”
“唉，我们真的还有钱烧这么多年吗？
换句话说，如果在EUV光刻机上，新芯又比我们先完成研发怎么办？”
“不可能，绝对不可能，我们连原型机都已经研发出来了，新芯没有参与EUV LLC的前期论证，华国国家层面压根没有投入到这一块的研发中去过。
Newman再厉害他也不可能改变物理世界的规则，如果是互联网世界，我相信Newman也许能做到。”
EUV也就是极紫外光光刻机，极紫外光的波长只有13.5nm，此时ASML的实验室已经有世界上第一台EUV的原型机了。
在看到新芯已经突破40nm，ASML的技术专家们把希望放在了EUV上，他们认为EUV将让这场竞争彻底失去悬念。
准确来说不是他们这么认为，是业内所有厂商都这么认为，谁先攻克EUV技术，谁将获得光刻机领域的最终胜利，霓虹的巨头们在霓虹产经省的主导下成立了EUVA的研发。
阿美利肯则在能源部的牵头下成立了EUV LLC，由阿美利肯三大顶尖国家实验室：劳伦斯利弗莫尔实验室、劳伦斯伯克利实验室和桑迪亚国家实验室去做技术论证。
技术论证完业界来实现。
因此阿美利肯和霓虹都在拼命往EUV里投入，失利只是暂时的，谁先攻克EUV，这场战争才算结束。
新芯的领先只是阶段性领先。
但是还是很肉痛，先进制程的市场失去后，这些企业要靠政府输血养活，这可是一大笔钱。
“我们欢迎大家使用新芯的浸润式光刻机，有采购需求的公司可以找新芯联系。”
林本坚的演讲结束后，台下响起了雷鸣般的掌声，即便是直接竞争对手ASML、尼康、佳能的技术代表们，都没有吝啬自己的掌声。
在这个经济全球化的年代，芯片应该是经济全球化最深的行业，任何一点技术进步，都将使整个行业受益。
新芯顺利靠着浸润法找到了150nm波长以下的光，那么尼康是不是可以先研发出157nm的干式光刻机，然后再用157nm波长的光去做浸润法，把波长进一步缩短？
所以新芯的技术进步，对直接竞争对手也是有帮助的，更别提芯片其他领域的厂商了。
“照片和视频拍的怎么样？拍好之后我们得赶快去后台找林博士采访然后回酒店把片子剪出来传回去。
这条新闻可是要在今天晚上七点档的新闻节目里播出呢。”
“拍好了。
我的技术你放心，绝对完美，把所有关键要素都拍到了。
我还是第一次从霓虹人脸上看出这么多表情。
林博士在说到他们已经完成了技术验证的时候，霓虹人的脸都绿了。
最后又不得不鼓掌的时候，看得我想笑。”
“拍到了就好，少说两句，小霓虹会中文的不少。”
“话说还是这种场合有意思，老是去国外参展，华国企业又不发言，就坐在下面听人家说，然后来接受我们采访就干站着说两句，什么我们要实现技术突破，我们要创新这类的套话。
那种出外勤是真没意思，这种让我自费跑一趟我都愿意。
刚刚我回后台拿设备准备来找林博士采访的时候，霓虹的媒体还用汉语问我能不能帮他做介绍，找林博士采访。
之前去出外勤哪能遇到这种事。”
“好了，别贫了，把镜头调好，我们就准备去找林博士了。
今天找他的人肯定很多，我们不能耽误人家时间。”
这是央妈的国际新闻团队，新芯实现光刻机领域的技术突破是华国当下难得的技术突破，完全值得大书特书。
这含金量可比汉芯高多了，汉芯只是芯片设计。
因此央妈派了一整个团队，想拍成一个纪录片，今天晚上的新闻节目只是放一小段实时新闻。
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